マイクロ波焼成炉

　マイクロ波焼成炉とは、電子レンジなどで利用されている『マイクロ波』を使用して焼成する、従来焼成炉の常識を根底から変える次世代炉です。

　マイクロ波加熱特性により、1台で高速脱水乾燥・高速脱バインダー・高速セラミックス焼成を実現します。単独で1,250℃。別売りのサセプタを使用することで、最大1,500℃まで昇温可能です。

　マイクロ波焼成炉は、作業時間の大幅短縮とランニングコストの削減で研究開発・理化学・新工法検討などの高速化に最適です。

マイクロ波焼成炉のしくみと特徴

　マイクロ波焼成炉MRK3050/3060（以下マイクロ波焼成炉MRK）とは、マイクロ波の直接照射と等温障壁の壁熱で焼成する炉です。

・直接照射：マイクロ波を直接照射することにより、内側から加熱することができます。

・等温障壁：直接照射だけでは従来炉と同様、内部の温度と表面温度に差が付き、歪みが生まれます。マイクロ波焼成炉MRKでは、等温障壁をマイクロ波で暖め、その壁熱で加熱します。これにより、従来炉と同様に外側からも加熱することが出来ます。

　マイクロ波焼成炉MRKは内部と外部からの同時加熱により従来炉に比べ、均一且つ高速に処理することが最大の特徴です。

　マイクロ波はその特性上、電磁波を吸収する素材を加熱します。電磁波を反射する素材は、加熱しない場合や温度が上がり難い場合がございます。

　水分を含む物質は、反応が良い結果が出ています。

　金属など電磁波を反射する物質を含む場合は、昇温しないこともございます。（放電する物質について：炉壁と距離が取れる場合に限り一部焼成可能）

　弊社にて、マイクロ波焼成炉での焼成テストを行えます。又、レンタルも承っております。

マイクロ波とは？

　電磁波の一種で、電波と呼ばれる帯域300M～300GHzの範囲がマイクロ波と呼ばれています。焼成炉では、このマイクロ波を対象物の分子に照射することにより加熱します。

　マイクロ波は他にも、レーダ・通信・医療・工業加熱など様々な用途に利用されています。身近な例として、携帯電話の電波や電子レンジがあります。

等温障壁

　等温障壁は、自然科学研究機構と岐阜セラミック技術研究所が開発した技術です。

　等温障壁は、焼結温度域で被処理物とマイクロ波吸収が等価な材料です。

　この等温障壁によって、内外からの加熱が可能になりました。